产品性能介绍:

膜厚仪主要用于光面基底上的透明、半透明薄膜样品进行常规测量，可得到单层或少数多层薄膜的膜厚，也可以得到薄膜的光学参数(如，折射率n、消光系数k)；适用于工业和科研中的常规测量，可应用于多种薄膜镀层工艺中，如化学机械抛光、化学气象沉积、物理气相沉积、硅片涂胶工艺等。

◆ 快速测量：仅需1-2秒就可完成一次测量

◆大范围膜厚测量：可测量膜厚范围从15nm – 70um

◆简洁操作：常规操作，只需点击一个按钮即可完

◆高效稳定：适用于工业现场，稳定可靠

◆经济实用：能够满足膜厚的常规测量，成本较低

产品参数说明:

一般指标:

● 光谱范围：370 – 1000 nm

●光谱分辨率：1.6 nm

●样品大小：典型晶圆尺寸12吋(即直径300mm)

●测量光斑：典型1.5mm

●膜厚测量范围(仅测膜厚时)：15 nm – 100 um

(对Si上的SiO2样品)

●膜厚测量范围(同时测膜厚和n、k时)：100 nm以上

●膜层数目：1-4层

光学和机械组件:

●光源：宽光谱光源

●探测器：高灵敏低噪声阵列式光谱探测器

●控制箱：含电路板、控制单元、电源、光源

●输出设备：软件界面支持输出、输入光谱数据

性能指标：

●膜厚测量重复性：0.1 nm(对Si上100 nm的SiO2样品)

●准确度：2 nm或0.4%(对Si上的SiO2样品)

●单次测量时间：典型时间1-2秒，与测量设置和样品性质有关

软件:

●界面语言：多语言界面可选择(包括中/英文)，默认中文

●操作模式：一键式常规测量模式(初学者可方便应用)；高级分析模式(可进行复杂材料的高级分析)

●光谱测量：手动/自动执行用户定义的任务；光谱以标准的波长单位显示

●测量结果输出：反射率；膜厚、折射率、消光系数

●建模、模拟和拟合：软件能够拟合多层结构(单层膜、多层膜)

●结果显示：显示图形；先进的报表功能，输出测量和计算光谱、光学模型和拟合参数

●文件管理功能：软件基于Windows平台，提供全面的文件管理功能