详细介绍：
派勒 PHN 1 实验之星纳米珠磨机,成功地应用于高品质和高产率的工业生产，经过数百年创新和不懈追求，Pühler 纳米研磨事业部已经无可争议成为分散和纳米研磨技术方面的专家，众所周知的派勒实验之星 Pühler PHN 系列销棒式大流量纳米珠磨机，其整机的完成，要求其部件具有很高的质量标准和优良的耐磨性能。拥有多样的机器配置，PUHLER 可以提供完美的珠磨机来满足您的产品和加工工艺。 包括间隙批次式和循环式工艺。研磨珠通过专利的销棒式转子加速器加速和独特结构设计大流量分离筛网筒使珠子在缸内形成内部研磨珠通路，从而确保短时间内聚集了最大能量。研磨珠的高速运转削弱了因物料的流动导致研磨珠向出口方向的轴向运动。

Pühler Lab Nano mill 标志着 PHN 已经成功研发制造出一款中小型纳米珠磨机，该款机型特点：

1）精细分散研磨从微米到纳米级的不同粘度级产品；
2）用于通道或循环式工艺，最小批量为 500 ml
3）工程陶瓷（氧化锆/碳化硅/特耐磨合金钢）设计材质，确保所研磨产品完全免于金属污染；
4）整套双端面机械密封研磨单元非常易于拆卸，便于单独清洗和消毒；
5）基于独有的专利的大流量动态分离器，可以得到最好的产品 - 通过马尔文Zate 检测得到最窄的粒径分布；
6）容易与清洗操作均非常简易和方便；
7）尖端的PLC工艺控制系统，确保设备运转时各数据的读取和监控，同时也方便将实验数据转换到工业生产；
8）独特的水冷电机和冷却系统设计，设备运转安静，噪音小于 65 dB(A) 。

技术：
派勒 Pühler PHN 销棒式纳米砂磨机通常用于大流量循环操作，称作"Open Canisler Separation system"系统。PHN 纳米砂磨机最简单的使用方式是将砂磨机与物料罐组合，通过泵将物料送至砂磨机进行研磨操作，用尽可能少的控制而获得较高的产品质量再现性。由于物料的分散过程是在物料罐中进行，因此砂磨机对泵流量的稳定性及研磨介质的填充量要求较低。当物料循环操作达到产品要求的细度时，自动停机。研磨时间是按照产品的性能预先设定。加大循环量有利于生产操作。
Nano II Circulation Mill System                                       
技术参数

1. 适用于小规模的研发和小批量生产；通过与清华大学工程系,材料系；华南理工大学材料节能中心,华东理工化学系；深圳职业技术学院精细化工系的产品合作试验物料最终细度均达到 100nm (纳米级)；
2. 适用于连续式或批量式操作模式，可配备多种大小的研磨缸, 而且易于更换；
3. 一台研磨机具有两种研磨原理, 可采用 PHE 分散盘，按一定顺序排列，克服了传统机研磨介质分布不均的缺点，或具有PUHLER专利的大流量4.分离筒式销棒加速器，专利的大流量分离筒加速器能够确保研磨珠做能量充沛的流体运动，从而实现对低黏度产品的一致的高能量的输入；
4. 独特的, 动态分离系统用于可靠的将超细研磨珠直径在 0.05-0.3mm 之间阻留在研磨腔内,最好的产品研磨质量和最窄的超细粒径分布在D90=80nm以内是完全能够实现的（通过英国马尔文仪器公司 Malvern Instruments Ltd 激光粒度分析仪检测所得）；
5. 大方得体外观，统一通用性的设计，从而可以把参数比例放大到任何同样研磨原理的 PHE 和 PHN 生产机型上,理想的通道式和循环式生产工艺，具有持续稳定的效率实现粒径分布最窄；
6. 一机多用的理想设备转换。具有广泛的研磨物料适应通用性, 可根据不同的物料选配与产品接触的部件（如特耐磨钢，硬质合金钢，不锈钢, 碳化钨，氧化锆，碳化硅，聚酰胺等）；高品质功能元件的使用, 能够保证很长的机器寿命和无金属污染；
7. 小批量和理想的冷却性能非常适合于对温度比较敏感的产品,短而粗外形设计的研磨腔和理想的冷却设计能够允许更好的对温度敏感的产品研磨；
8. 低能耗得益于高效率的能量输入 (kWh/kg of product)；
9. 容易拆装 - 很容易拆卸方便维护保养, 而且简单几步就能更换成不同的研磨配置；
10.只需要很少的清洁剂便可以轻易的清洁研磨机,容易处理而且操作和维护成本极低都得益于研磨腔光滑的设计；
11. 尖端的 PLC 工艺控制系统,操作方便，通过模块操作数据的记录可以确保今后生产的可重复性；
12. 确保设备运转时各数据的读取和监控，操作方便。

应用：
派勒 Pühler PHN 实验之星纳米珠磨机：主要应用于要求“零污染”、高硬度物料的超细研磨及分散：
1) Color paste / Color filter / TFT LCD  ：R﹑G﹑B﹑Y 及BM 已成功地分散研磨到纳米级，透明度需超过90％，粘度控制在 5-15 CPS，含水率在1％以下。
2) Ink-jet Inks：颜料型Ink-jet Inks 已成功地分散研磨到纳米级，粘度控制在5 CPS 以下。
3) CMP (chemical mechanical polish) slurry：半导体晶片研磨所需之研磨液粒径已达纳米级且能满足无金属离子析出要求。
4) TiOPc (optical contact)：应用于雷射列表机光鼓上所涂布光导体，已研磨分散到纳米级。
5) 纳米级粉体研磨，如TiO2﹑ZrO2﹑Al2O3﹑ZnO﹑Clay﹑CaCo3﹑…，可分散研磨到30 nm。
6) 纳米级粉体分散。如将纳米粉体分散到高分子，或将纳米级粉体添加到塑胶﹑橡胶等进行分散。
7) 医药达到纳米级要求，且需能满足FDA 要求。
8) 食品添加剂达到纳米级之要求。如β胡萝卜素…，需满足GMP 要求。
9) 电子化学品达到纳米级需求，且需能满足无金属离子析出问题。
10)其他特种**, 航空纳米材料。
11)如:电子产业﹑光电产业﹑医药生化产业﹑化纤产业﹑建材产业﹑金属产业﹑﹑磁性材料﹑保健品﹑生物制药和细胞破碎﹑氧化物﹑纳米材料﹑医药生化产业﹑肥皂、皮革、电子陶瓷、导电浆料、胶印油墨、纺织品、喷绘油墨、芯片抛光液、细胞破碎、化妆品、喷墨墨水、金属纳米材料、塑料材料、特种纳米航空材料等行业。

技术参数：