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| 品牌: | Transene | | 产地: | 美国 | | 产品别名: | TANTALUM NITRIDE ETCHANT SIE8607
金属蚀刻剂
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产品介绍 | 钽蚀刻剂SIE—8607和111 | 说明 Transene钽蚀刻剂SIE—8607和111是在微电子产品的制作中用于精密、清晰的蚀刻钽、氮化钽和氧化钽膜的高纯度蚀刻剂体系。钽蚀刻剂SIE—8607是浸蚀性更强的快速蚀刻剂。而钽蚀刻剂—111则是便于蚀刻控制的较缓慢的蚀刻剂，它能更为有效地去除氧化钽膜层。这两种蚀刻剂都经过滤去除了大于0.2微米的颗粒。 性质
| 钽蚀刻剂SIE—8607 | 钽蚀刻剂—111 | 外观 | 澄清 | 澄清 | 溶解性 | 无限溶于水 | 无限溶于水 | 过滤 | 0.2微米 | 0.2微米 | 操作温度 | 25℃ | 25℃ | 蚀刻速率（Ta），25℃ | 70～80 Å/秒 | 30～40 Å/秒 | 贮存 | 室温 | 室温 | 有效期 | 1年 | 1年 | 掩散材料 | 金；阴性和阳性光刻胶 | 金；阴性和阳性光刻胶 | 冲洗 | 去离子水 | 去离子水 |
应用 蚀刻时间随材料种类（Ta，TaN或Ta2O5）和材料的纯度的不同而改变。把待蚀刻部件放在蚀刻液中后应进行中等强度的搅拌。钽蚀刻剂中含有氢氟酸，它能浸蚀氧化硅、钛、镍、铝和铬。 |
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