慧诺HN-SS6旋涂仪（不锈钢）：不锈钢一体腔体，转速精度±1rpm，6英寸基片适用

在半导体、光学薄膜、光电材料、精密微电子等领域，旋涂工艺对设备的精度、洁净度和稳定性有着严格要求。慧诺HN-SS6旋涂仪（不锈钢）采用高品质不锈钢一体式腔体，结构坚固耐磨、洁净度高、不易腐蚀。搭载5英寸液晶屏，支持中英文切换与多段程序编辑，直流无刷电机驱动，转速范围0~12000rpm，速度精度±1rpm，匀胶精度±1%。最大支持6英寸基片加工，可适配多种尺寸及异形托盘，是洁净实验室与精密制造的可靠工具。

一、产品概述

HN-SS6不锈钢旋涂仪采用不锈钢一体式腔体，搭配与腔体材质相同的上盖和恒扭矩铰链，整体密封性好。设备搭载5英寸液晶屏，支持中英文切换与多段程序编辑，单步/多步运行可选，操作界面简单易用。

该设备适用于高标准、高洁净的无强腐蚀工艺场景，广泛应用于精密微电子、半导体、光学薄膜、光电材料、新材料研发等领域，适配6英寸及以内基片的精密涂层旋涂实验与小批量制备。

二、核心特点

不锈钢一体式腔体，高洁净耐腐蚀
采用高品质不锈钢材质，一体式设计，结构坚固、洁净度高、不易腐蚀。上盖与腔体材质相同，搭配恒扭矩铰链，密封性好，日常清理维护方便。

转速精准，±1rpm精度
直流无刷电机驱动，转速范围0~12000rpm，转速分辨率1rpm，速度精度±1rpm，匀胶精度±1%，转速稳定性±1%。加减速度可控可调，加速度范围100~30000rpm/s，满足不同材料的旋涂工艺需求。

多段程序编程，灵活可控
支持5段程序编辑（可定制10段/20段），时间分辨率1s，每步最大旋转时间3600s。中英文操作界面切换，可预设和存储多组工艺参数，提高实验重复性。

支持加热与自动注胶扩展
可选配0~200℃快速气体加热功能，升降温速率10℃/s，支持正反转旋涂，适配多种特殊成膜工艺。可加装可调式自动注胶系统，支架高度和角度均可调节。

适配多种基片，托盘可定制
最大支持6英寸圆形基片，标配50mm、75mm真空托盘。3寸、4寸及异形真空托盘均可定制，灵活满足不同规格样品的旋涂需求。

侧边清洗排胶，维护便捷
一体式设计搭配侧边清洗排胶结构，方便日常清理，减少胶液残留对设备的污染。

安全装置
配备堵胶保护功能，防止胶液溢出损坏设备。

三、详细规格参数

四、适用行业与典型应用

• 精密微电子：光刻胶旋涂、薄膜制备

• 半导体制造：晶圆涂胶、匀胶工艺

• 光学薄膜：光学涂层旋涂、增透膜制备

• 光电材料：功能性薄膜的旋涂成膜

• 新材料研发：纳米材料、高分子薄膜的实验室制备

• 科研院所：高洁净度要求的薄膜工艺研究

五、产品优势一览

• 不锈钢一体式腔体：高洁净、耐腐蚀、易清洁

• 转速精度±1rpm：精准控制，重复性好

• 0~12000rpm宽转速范围：覆盖多种旋涂工艺需求

• 加速度可调：100~30000rpm/s，灵活适配不同材料

• 5段编程+中英文界面：操作简单，参数可存

• 支持加热扩展：0~200℃气体加热，正反转旋涂

• 支持自动注胶：可加装可调式自动注胶系统

• 最大6英寸基片：托盘可定制，适配多种规格

• 侧边排胶设计：维护方便

• 堵胶保护：安全可靠

六、结语

慧诺HN-SS6旋涂仪（不锈钢）凭借不锈钢一体式腔体、0~12000rpm转速范围、±1rpm转速精度、多段程序编程、加热与自动注胶扩展功能等核心优势，成为半导体、微电子、光学薄膜、光电材料等领域高洁净度旋涂工艺的理想设备。无论您是进行光刻胶旋涂、薄膜制备还是新材料研发，这款不锈钢旋涂仪都能提供高效、精准、稳定的涂覆体验。